O le kemisi-mechanical polishing (CMP) e masani ona aʻafia i le gaosia o luga lamolemole e ala i vailaʻau faʻasolosolo, aemaise lava galuega i le alamanuia o le gaosiga o semiconductor.Lonnmeter, o se tagata fa'atauva'a fa'atuatuaina ma sili atu i le 20 tausaga o le poto fa'atatau i fua fa'atatau i totonu, e ofoina atu le tulaga fa'aonaponei.mita le mamafa faaniukiliama masini viscosity e foia ai luitau o le puleaina o slurry.
Le Taua ole Slurry Quality ma Lonnmeter's Tomai Fa'apitoa
O le slurry polesi masini kemikolo o le ivi pito i tua o le faagasologa CMP, fuafuaina le tutusa ma le lelei o luga. O le le tutusa o le slurry density po'o le viscosity e mafai ona o'o atu ai i fa'aletonu e pei o micro-scratches, fa'aletonu meafaitino aveese, po'o le pa'u papa, fa'afefeteina le lelei o le wafer ma fa'ateleina le tau o gaosiga. Lonnmeter, o se ta'ita'i i le lalolagi atoa i fofo o fua o alamanuia, e fa'apitoa i le fuaina o slurry inline ina ia mautinoa ai le fa'atinoina o le slurry sili ona lelei. Faatasi ai ma se faʻamaumauga faʻamaonia o le tuʻuina atu o masini faʻatuatuaina, maualuga-saʻo, Lonnmeter ua faipaaga ma taʻitaʻi gaosi semiconductor e faʻaleleia le faʻatonutonuina ma le lelei. O latou mita slurry slurry e le faaniukilia ma masini viscosity e maua ai faʻamatalaga mo le taimi moni, e mafai ai ona fetuutuunai saʻo e faʻatumauina ai le slurry tutusa ma faʻamalieina manaʻoga o le gaosiga o semiconductor faʻaonapo nei.
I luga atu o le luasefulu tausaga o le poto masani i fua fa'atatau i totonu, fa'atuatuaina e kamupani semiconductor pito i luga. Lonnmeter's sensors ua mamanuina mo le tuʻufaʻatasia lelei ma le leai o se tausiga, faʻaitiitia le tau o galuega. Faʻatonu fofo e faʻafetaui ai manaoga faʻapitoa, faʻamautinoa le maualuga o fua o le wafer ma le tausisia.
Le Matafaioi a le Faʻaulaina Faʻainisinia Faʻainisinia i le gaosiga o Semiconductor
Fa'aliga fa'ainisinia (CMP), o lo'o ta'ua fo'i o le chemical-mechanical planarization, o se maatulimanu o le gaosiga o semiconductor, e mafai ai ona fausia ni mea mafolafola, e leai se fa'aletonu mo le gaosiga o chip. E ala i le tuʻufaʻatasia o vailaʻau faʻamaʻi ma le faʻaogaina o masini, o le CMP e faʻamautinoaina le saʻo e manaʻomia mo le tele-layered integrated circuits i nodes i lalo ole 10nm. O le slurry fa'amalo fa'ainisinia kemikolo, e aofia ai le vai, vaila'au fa'afoma'i, ma vaega abrasive, e fegalegaleai ma le pa'u fa'alelei ma le wafer e aveese tutusa mea. A'o fa'atupuina mamanu semiconductor, o le fa'agasologa o le CMP e feagai ma le fa'atuputeleina o le lavelave, e mana'omia ai le pulea lelei o mea fa'apalapala e puipuia ai fa'aletonu ma ausia ai le lamolemole, fa'aiila fa'apolopolo o lo'o mana'omia e Semiconductor Foundries and Materials Suppliers.
O le faagasologa e taua tele mo le gaosia o meataalo 5nm ma 3nm ma ni faaletonu laiti, lea e mautinoa ai le mafolafola mo le faʻapipiʻiina saʻo o isi laulau. E o'o lava i nai fa'aletonu laiti e mafai ona o'o atu ai i le toe fa'aleleia o le tau po'o le gau.
Lu'itau i le Mataituina o Meatotino Slurry
O le fa'atumauina pea o le slurry density ma le viscosity i le fa'agasologa fa'apolofesa fa'ainisinia e tumu i lu'itau. E mafai ona fesuisuia'i mea e pei o le felauaiga, fa'afefiloi i le vai po'o le hydrogen peroxide, le fa'afefiloi lelei, po'o le fa'aleagaina o vaila'au. Mo se fa'ata'ita'iga, o le fa'atumauina o fasi mea'ai i tote slurry e mafai ona mafua ai le maualuga o le mamafa i le pito i lalo, e o'o atu ai i le le tutusa o le polesi. O auala masani e mata'ituina ai e pei o le pH, oxidation-reduction potential (ORP), po'o le conductivity e masani ona le lava, ona e le mafai ona latou iloa suiga maaleale i le slurry composition. O nei tapula'a e mafai ona i'u ai i fa'aletonu, fa'aititia fua faatatau o le aveeseina, ma fa'atuputeleina ai tau fa'aaoga, ma fa'atupu ai ni fa'alavelave tetele mo le gaosiga o masini semiconductor ma kamupani tu'uina atu auaunaga CMP. O suiga fa'aputu i le taimi o le tagofiaina ma le tu'uina atu e a'afia ai le fa'atinoga. O nodes i lalo-10nm e mana'omia ai le fa'amalo lelei o le fa'amama slurry ma fa'afefiloi sa'o. O le pH ma le ORP o loʻo faʻaalia sina suiga, ae o le amio e fesuisuiaʻi ma le slurry matua. E mafai ona fa'atupula'ia tulaga fa'aletonu e o'o atu i le 20%, i su'esu'ega fa'apisinisi.
Lonnmeter's Inline Sensors mo le Mata'ituina Taimi Moni
Lonnmeter o lo'o fa'atautaia nei lu'itau i ana mita maualuga e le faaniukilia slurry density mita mamasini viscosity, e aofia ai le mita viscosity i totonu mo le fuaina o le viscosity i-laina ma le mita ultrasonic density mo le slurry density tutusa ma le mataituina o le viscosity. O nei masini ua mamanuina mo le tuʻufaʻatasia e aunoa ma se faʻaogaina i faiga CMP, e faʻaalia ai fesoʻotaʻiga masani a alamanuia. O fofo a Lonnmeter e ofoina atu le faʻatuatuaina umi ma le maualalo o le tausiga mo lona fausiaina malosi. O fa'amaumauga moni e mafai ai e le aufaipisinisi ona fa'alelei fa'afefiloi slurry, puipuia fa'aletonu, ma fa'amalieina le fa'aiila o le fa'atinoga, ma avea nei mea faigaluega e mana'omia mo Su'esu'ega ma Su'ega Meafaigaluega ma le CMP Consumables Suppliers.
Fa'amanuiaga o le Mata'ituina Fa'aauau mo le CMP Optimization
O le mata'itūina fa'aauau ma masini fa'ainitaneti a Lonnmeter e fa'aliliuina ai le fa'agasologa o le fa'aiila fa'ainisinia e ala i le tu'uina atu o fa'amatalaga e mafai ona fa'atino ma fa'asaoina tau. O le fuaina o le slurry i le taimi moni ma le mata'ituina o le viscosity e fa'aitiitia ai fa'aletonu e pei o maosiosia po'o le fa'alelei e o'o atu i le 20%, e tusa ai ma fa'ailoga tau alamanuia. O le tu'ufa'atasia ma le faiga o le PLC e mafai ai ona fa'aogaina fa'atosina ma fa'atonutonu le fa'agasologa, fa'amautinoa o lo'o tumau pea mea fa'afefete i totonu o laina sili ona lelei. Ole mea lea e mafua ai le 15-25% fa'aitiitiga o tau fa'aaoga, fa'aitiitia taimi fa'aletonu, ma fa'aleleia le tutusa o le wafer. Mo Semiconductor Foundries ma CMP Services Providers, o nei faʻamanuiaga e faʻaliliuina i le faʻaleleia atili o le gaosiga, maualuga atu tupe mama, ma le tausisia o tulaga faʻapitoa e pei ole ISO 6976.
Fesili masani e uiga ile Slurry Monitoring ile CMP
Aisea e taua ai le fuaina o le slurry density mo le CMP?
O le fuaina o le slurry e fa'amautinoa ai le tufaina atu o fasi mea'ai tutusa ma le fa'afefiloi lelei, puipuia o fa'aletonu ma fa'amalieina le fua o le aveeseina i le fa'agasologa o le fa'amalo fa'ainisinia. E lagolagoina le maualuga o le gaosiga o le wafer ma le tausisia o tulaga tau alamanuia.
E fa'afefea ona fa'aleleia e le mata'ituina o le viscosity le lelei o le CMP?
O le mata'ituina o le viscosity e fa'atumauina ai pea le tafe mai o slurry, puipuia ai fa'afitauli e pei o le pupuni o le papa po'o le fa'alelei le tutusa. Lonnmeter's inline sensors e maua ai fa'amaumauga mo'i taimi e fa'amalieina ai le fa'agaioiga o le CMP ma fa'aleleia ai fua o le wafer.
O le a le mea e tulaga ese ai mita slurry slurry e le faaniukilia a Lonnmeter?
Lonnmeter's non-nuclear slurry density mita e ofoina atu fua tutusa ma le viscosity ma maualuga maualuga ma leai se tausiga. O la latou mamanu malosi e faʻamautinoa ai le faʻamaoni i le manaʻomia o siʻosiʻomaga o le CMP.
O le fuaina o le slurry i le taimi moni ma le mata'ituina o le viscosity e taua tele mo le fa'amalieina o le fa'agasologa o le fa'amalo fa'ainisinia i le gaosiga semiconductor. Lonnmeter's non-nuclear slurry density meters and viscosity sensors e maua ai Semiconductor Equipment Manufacturers, CMP Consumables Suppliers, ma Semiconductor Foundries faatasi ai ma meafaigaluega e foia ai luitau tau pulega slurry, faaitiitia faaletonu, ma tau maualalo. E ala i le tuʻuina atu o faʻamatalaga saʻo, taimi moni, o nei fofo e faʻaleleia ai le lelei o le faagasologa, faʻamautinoa le tausisia, ma faʻauluina tupe mama i le maketi CMP faatauva. AsiasiLe upega tafaʻilagi a Lonnmeterpe fa'afeso'ota'i la latou 'au i aso nei e su'esu'e pe fa'afefea ona suia e Lonnmeter au galuega fa'alelei masini kemikolo.
Taimi meli: Iul-22-2025
